廢氣處理活性炭光氧一體機?處(chu)理(li)污(wu)染物的(de)(de)(de)原(yuan)理(li)為：在(zai)(zai)外加(jia)電(dian)(dian)場(chang)的(de)(de)(de)作(zuo)用下(xia)，介質(zhi)放電(dian)(dian)產(chan)生的(de)(de)(de)大量攜能電(dian)(dian)子(zi)轟擊污(wu)染物分(fen)子(zi)，使(shi)(shi)(shi)(shi)其電(dian)(dian)離(li)(li)(li)、解離(li)(li)(li)和(he)激發，然后(hou)便(bian)引發了一系列(lie)復雜(za)的(de)(de)(de)物理(li)、化(hua)學反(fan)應(ying)，使(shi)(shi)(shi)(shi)復雜(za)大分(fen)子(zi)污(wu)染物轉(zhuan)(zhuan)變(bian)為簡單小(xiao)分(fen)子(zi)   物質(zhi)，或使(shi)(shi)(shi)(shi)有毒(du)有害物質(zhi)轉(zhuan)(zhuan)變(bian)成   無害或低(di)毒(du)低(di)害的(de)(de)(de)物質(zhi)，從而使(shi)(shi)(shi)(shi)污(wu)染物得以降解去除。因其電(dian)(dian)離(li)(li)(li)后(hou)產(chan)生的(de)(de)(de)電(dian)(dian)子(zi)平均(jun)能量在(zai)(zai)10ev ，適當控制反(fan)應(ying)條件可以實(shi)現一般情況下(xia)難以實(shi)現或速(su)度(du)很(hen)慢的(de)(de)(de)化(hua)學反(fan)應(ying)變(bian)得十分(fen)快速(su)。作(zuo)為環境污(wu)染處(chu)理(li)領域中的(de)(de)(de)一項具有*潛(qian)在(zai)(zai)優勢的(de)(de)(de)高(gao)新技術，等離(li)(li)(li)子(zi)體受到了國內外相(xiang)關(guan)學科界的(de)(de)(de)高(gao)度(du)關(guan)注。

廢氣處理活性炭光氧一體機活(huo)性(xing)炭吸附(fu)(fu)是利(li)用(yong)活(huo)性(xing)炭的多(duo)(duo)孔性(xing)，存在(zai)吸引(yin)力(li)的原理而(er)開發(fa)的。由(you)于固(gu)體(ti)(ti)(ti)表面(mian)(mian)(mian)上存在(zai)著(zhu)未平衡飽和(he)的分子力(li)或化學(xue)鍵力(li)，因此當固(gu)體(ti)(ti)(ti)表面(mian)(mian)(mian)與氣體(ti)(ti)(ti)接觸(chu)時(shi)，就能吸引(yin)氣體(ti)(ti)(ti)分子，使(shi)其濃集并保持在(zai)固(gu)體(ti)(ti)(ti)表面(mian)(mian)(mian)，這種(zhong)現象就是吸附(fu)(fu)現象。本工(gong)藝(yi)所采用(yong)的活(huo)性(xing)炭吸附(fu)(fu)法就是利(li)用(yong)固(gu)體(ti)(ti)(ti)表面(mian)(mian)(mian)的這種(zhong)性(xing)質，當廢氣與大(da)表面(mian)(mian)(mian)的多(duo)(duo)孔性(xing)活(huo)性(xing)炭相(xiang)接觸(chu)，廢氣中的污(wu)染物被吸附(fu)(fu)在(zai)活(huo)性(xing)炭固(gu)體(ti)(ti)(ti)表面(mian)(mian)(mian)，從而(er)與氣體(ti)(ti)(ti)混合(he)物分離，達(da)到(dao)凈化的目的。

光(guang)解(jie)氧(yang)化是(shi)指在一定波長光(guang)照條(tiao)件下,半導體(ti)材料(liao)(liao)發生(sheng)(sheng)光(guang)生(sheng)(sheng)載流子的分(fen)(fen)(fen)離,然(ran)后光(guang)生(sheng)(sheng)電子和空穴在與離子或(huo)(huo)分(fen)(fen)(fen)子結合生(sheng)(sheng)成具(ju)有(you)(you)氧(yang)化性或(huo)(huo)還原性的活(huo)(huo)性自由(you)基(ji),這種(zhong)活(huo)(huo)性自由(you)基(ji)能將有(you)(you)機(ji)(ji)物大分(fen)(fen)(fen)子降(jiang)解(jie)為二氧(yang)化碳或(huo)(huo)其他小分(fen)(fen)(fen)子有(you)(you)機(ji)(ji)物以(yi)及水,在反應過程中這種(zhong)半導體(ti)材料(liao)(liao)也就是(shi)光(guang)解(jie)劑本(ben)(ben)身不發生(sheng)(sheng)變(bian)化。 HJUV---系(xi)列(lie)TiO2光(guang)解(jie)催(cui)化氧(yang)化設(she)備(bei)是(shi)我(wo)公(gong)司(si)根據國內外廢氣(qi)處理設(she)備(bei)的先(xian)進(jin)技(ji)術并(bing)在我(wo)公(gong)司(si)多(duo)年生(sheng)(sheng)產光(guang)解(jie)催(cui)化氧(yang)化設(she)備(bei)的基(ji)礎(chu)上，改進(jin)的新一代TiO2光(guang)解(jie)催(cui)化氧(yang)化設(she)備(bei)， 本(ben)(ben)產品利用UV紫外線技(ji)術(波段184.9nm-253.7nm)，產生(sheng)(sheng)臭氧(yang)，游離活(huo)(huo)性氧(yang)離子。通過高能紫外線光(guang)破壞降(jiang)解(jie)分(fen)(fen)(fen)子鍵及協同(tong)分(fen)(fen)(fen)解(jie)氧(yang)化反應去(qu)除有(you)(you)機(ji)(ji)污染(ran)物。